teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken
DEGermanyUNTERSCHWELLIG — NICHT AUF TED
Auftrag
AuftraggeberFraunhofer ENAS →
ArtDienstleistung
AuftragswertWert nicht angegeben
Veröffentlicht28. Aug. 2026
VerfahrenÖffentliche Ausschreibung (UVO)
17
Tage bis zur Frist — Mittwoch, 16. September um 12:00
Taktik
Dieses Verfahren gibt 19 Tage zwischen Veröffentlichung und Frist — üblich in Deutschland sind 33 (Mittel aus 20.411 Verfahren). Deutlich knapper als üblich: hier zählt die erste Woche.
So bewerben Sie sich
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teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische MaskenFür diese Quelle führen wir keine Bekanntmachungsnummer — suchen Sie nach dem Titel oder dem Auftraggeber.
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