częściowo automatyczny system czyszczący do masek fotolitograficznych
teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken
Niemcy
Zamówienie
ZamawiającyFraunhofer ENAS
RodzajUsługi
Wartość szacunkowawartość nieopublikowana
Opublikowano28 sierpnia 2026
17
dni do terminu — środa, 16 września 12:00
Jak złożyć ofertę
Otwórz Deutsche eVergabe i wyszukaj tam:
teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische MaskenDla tego źródła nie mamy numeru ogłoszenia — proszę szukać po tytule lub zamawiającym.
Takie przetargi codziennie o 7:30 w Państwa skrzynce.
Zacznij bezpłatnie →