ALD-Anlage
Was der Auftraggeber sucht
Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die Dünnschichtabscheidung eine Plasma-gestützte Atomlagenabscheidungsanlage (kurz: PE-ALD, engl. Plasma enhanced atomic layer deposition) aus, welche zum Abscheiden von Dünnschichten auf unterschiedlichen Substraten vom Einzelchipformat (5 x 5 mm²) bis mindestens 150 mm Wafer eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind reproduzierbare Abscheideprozesse verschiedener leitfähiger, halbleitender und dielektrischer Schichten. Diese sollen auch ohne Vakuumunterbrechung (Multilagen) prozessiert werden. Ein Steuer-PC mit Monitor, Tastatur, Maus, entsprechender Software-Lizenzen und aktuellem Betriebssystem (Win 11) ist mitzuliefern.
Auftrag
Art der Leistung
Wer bei diesem Auftraggeber bisher gewonnen hat
| Unternehmen | Zuschläge | Zeitraum |
|---|---|---|
| primeLine Solutions GmbH | 6 | 2024 |
| DELTA Computer Products GmbH | 6 | 2024 |
| TOPAG Lasertechnik GmbH · Darmstadt | 4 | 2024–2025 |
| Agilent Technologies Deutschland GmbH | 3 | 2025 |
| Harald Gollwitzer GmbH | 3 | 2025 |
Wie oft dieser Auftraggeber so etwas ausschreibt
Kontakt Vergabestelle
Taktik
Dieses Verfahren gibt 49 Tage zwischen Veröffentlichung und Frist — üblich in Deutschland sind 33 (Mittel aus 23.043 Verfahren). Deutlich großzügiger als üblich — Zeit für ein gründliches Angebot statt eines schnellen.
So bewerben Sie sich
Die nächste nicht verpassen
Solche Ausschreibungen erreichen unsere Nutzer jeden Morgen um 7:30 Uhr — passend zur Firma, auf Deutsch.
Kostenlos starten