Appel d'offres à procédure ouverte conformément à l'art. 71 du D.Lgs. 36/2023 pour la fourniture d'un système de gravure ionique réactive assistée par plasma couplé inductivement (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)

Gara a procedura aperta ai sensi dell’art. 71 del D.Lgs. 36/2023 per la fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)

Italie